LPCVD(图),LPCVD(图)价格,LPCVD(图)销售

行业分站:

设为首页	免费注册	客客通	会员登录	供应站	采购站
收藏本站	电子资讯	电子展会	二手设备	维修保养	设备加工

您当前的位置：电子生产设备网首页 >查看供应信息>> LPCVD(图)

详细说明

为您详细介绍：LPCVD(图)产品,希望LPCVD(图)可以为您的企业解决生产中的问题！
设备用于4-6″硅片淀积Si3N4、SiO2、Poly-Si、PSG、BPSG等薄膜生长工艺。1. 用工业微机对工艺时间、温度、气体流量、阀门动作、反应室压力实现自动控制。2. 采用进口压力控制系统，闭环控制，稳定性高。3. 采用进口耐腐蚀不锈钢管件、阀门，确保气路气密性。4. 具有完善的报警功能及安全互锁装置。5. 具有良好的人机界面，灵活的工艺性能。· 适用硅片尺寸：4-6″ · 装片数量：25～100片/炉管 · 工作温度范围：350～1100℃ · 温区长度及精度：760mm≤±1℃/500mm· 温度梯度：0～30℃/500mm可调· 系统极限真空度：0.7Pa(6×10-3乇)· 工作压力范围： 67Pa～133Pa可调· 淀积膜种类：Si3N4、Poly-Si、SiO2· 淀积膜均匀性：Si3N4 片内 ±5％片间 ±5％批间 ±5％· 淀积膜均匀性：Poly-Si 片内 ±5％片间 ±5％批间 ±5％· 淀积膜均匀性：SiO2 片内 ±5％片间 ±6％批间 ±6％· 淀积膜厚度：1000～6000埃
更多的LPCVD(图)产品，LPCVD(图)价格咨询，LPCVD(图)产品样本索取，可以直接联系本公司！我们可以提供更多的LPCVD(图)技术支持！
本文阅读关键词：低压化学气相淀积设备，cvd，cvd设备

LPCVD(图)-图片展示区：

产品图片

发布时间:		价格说明:	LPCVD(图)面议
有效期:		产品数量:	LPCVD(图)现货
浏览人数:		包装说明:	LPCVD(图)原厂包装
公　司:	青岛赛瑞达设备制造有限公司	联系人：	宋德鹏添加为商业伙伴

在线留言,咨询,订购！

如果您对LPCVD(图)产品,有型号,技术参数,产品价格和产品货期查询,请留言---我们很快为你解答！【点击!】

本公司更多的相关产品展示：

供应氧化炉	供应氢气炉(图)	LPCVD(图)	供应程控扩散炉(	供应加热炉体系列	供应双工位脱氧炉	加热炉体(图)	供应太阳能电池专
供应清洗机系列(	供应进口炉改造工	供应砷化镓单晶炉	供应真空烧结炉(	供应LED专用设	太阳能电池片扩散	供应电力电子器件	扩散炉
供应气氛保护烧结	PECVD(图)	供应磁性材料专用	供应美国二手硅片	供应真空热处理炉